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Gracias por participación:
TESLA, Berlín; Transmediale, Berlín; V2, Róterdam; MAXXI, Roma; Ars Electronica, Linz; CIANT, Praga; Arts Council, Gran Bretaña; Rhizome, New Museum New York; PAN, Nápoles; UCLA Design - Media Arts MIT, Los Angeles - Massachusetts; MADC, Costa Rica; CENART, México; Museo de Arte Moderno de Buenos Aires; Centro Cultural San Martín, Buenos Aires; Museo Rufino Tamayo de Arte Contemporáneo, México; ATA, Alta Tecnología Andina, Perú; Bienal de V ídeo y Nuevos Medios Chile; Universidad de Chile; Chelsea Art Museum, New York; Laboratorio de Arte e Tecnologia da Escola de Artes Visuais do Parque Lage, Rio de Janeiro, Brasil ; The Art Institute of Chicago, EEUU; Hangar, Barcelona; Fundación OI, Río de Janeiro; Museo Artes Visuales de Uruguay; MediaLab Prado, Madrid; Laboral, Gijón...
Universidades vinculadas:
Universidad de Murcia | Universidad de Barcelona | Universidad de Madrid |
Facultad de Bellas Artes | Fine Art Academy. Roma | Universidad de Chile
Agradecimientos a :
Organización de Estados Iberoamericanos - Ars Fundum - Rhizome.org - D-I-N-A - Comunicacion Cultural - Newmediafix - Nettime - a-l-g-a-Random Magazine - Fundació La Caixa Mediateca - Arteleku Laburrak - noemalab - elastico - cg-node - arteacción - cg-node - dunadigital - lisboa20.pt/lx20/ -creaciodigital.upf - electronados - hollyroot - amblart - artezblai
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