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    Partner:

                                   


      
     Collaborators:

     Media  International comunication :

     Thanks for participation:

       TESLA, Berlín; Transmediale, Berlín; V2, Róterdam; MAXXI, Roma; Ars Electronica, Linz; CIANT, Praga; Arts Council, Gran        Bretaña; Rhizome, New Museum New York; PAN, Nápoles; UCLA Design - Media Arts MIT, Los Angeles - Massachusetts; MADC,        Costa Rica; CENART, México; Museo de Arte Moderno de Buenos Aires; Centro Cultural San Martín, Buenos Aires; Museo Rufino        Tamayo de Arte Contemporáneo, México; ATA, Alta Tecnología Andina, Perú; Bienal de V ídeo y Nuevos Medios Chile;        Universidad de Chile; Chelsea Art Museum, New York; Laboratorio de Arte e Tecnologia da Escola de Artes Visuais do Parque        Lage, Rio de Janeiro, Brasil ; The Art Institute of Chicago, EEUU; Hangar, Barcelona; Fundación OI, Río de Janeiro; Museo Artes        Visuales de Uruguay; MediaLab Prado, Madrid; Laboral, Gijón...

        Universities: 

        Universidad de Murcia            |   Universidad de Barcelona  |  Universidad de Madrid |   

        Facultad de Bellas Artes         |     Fine Art Academy. Roma  |      Universidad de Chile   

      Thanks to :

     Organización de Estados Iberoamericanos - Ars Fundum - Rhizome.org - D-I-N-A - Comunicacion Cultural - Newmediafix -      Nettime -  a-l-g-a-Random Magazine - Fundació La  Caixa Mediateca - Arteleku Laburrak - noemalab - elastico - cg-node -           arteacción - cg-node - dunadigital - lisboa20.pt/lx20/ -creaciodigital.upf - electronados - hollyroot - amblart - artezblai

       
    artechmedia06

     artechmedia06  colaboradores :       

                             

  soporte tecnológico:

       

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